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水滴角测量仪应用芯片半导体行业

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发表于 2020-6-27 11:51:12 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
半导体芯片行业,特别是在晶圆制造过程中对晶圆的纯度要求很高,只有需要晶圆才能被视为合格。水滴角测量仪是评价等离子体清洗效果的一种有效工具。近些年以来,我国芯片行业发展迅速,对半导水滴测试角提出了更高的要求。

根据水滴角测试的基本原理,固体表面接触角值或水滴角值不同于左、右、前、后,因此,水滴角测量仪器的算法采用符合界面化学基本原理的3D算法(adsa-realdrop)。同时,硬件必须具有微电平控制精度的二维水平调节表和微电平控制精度的二维水平调节机构。

芯片半导体应用测试技术要求:
1.由于芯片的纳米工艺,如7nm或者更小,结构多样,方向多样,在芯片或晶片制作过程中异质性特别突出。此外,要求水滴角度测量仪采用阿莎算法,充分利用其高灵敏度。
2.水滴角度测量仪的应用特性要求微液滴(尽可能在1ul内,使用超细针)在一小范围内左、右、前、后由于小变化造成的清洗效果差。
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